ULVAC Technologies近日推出了UNECS-2000光谱式椭偏仪，该产品可在研发过程中用于高速薄膜厚度和薄膜光学常数的测量。
针对问题：
光谱式椭偏仪可分析多层膜或其它复杂结构的薄膜因为它可以测量薄膜在某波长带下的偏光条件。主要分两类测量方法：光学器件旋转法和相位调制法。前一种方法可通过机械旋转光学器件控制偏光属性。后一种方法可通过电子控制偏光设备的偏光属性。这两种方法均需要机械或电子控制复杂的光学系统。这也就是开发更紧凑型、更快速型椭偏仪比较困难的原因。
解决方案：
紧凑型UNECS-2000光谱式椭偏仪消除了对机械或电子控制偏光设备的传统方法的依赖。它利用的是从两高阶移相器间产生的偏光干涉中获得光谱，从而得以即刻捕捉到样本光谱偏光参数的波长分布。发射器和传感器头非常小，而且带有内置光源和控制器。同时还带有计算机控制和分析软件。电机阶段可控制直径最长为200mm的样本。通过并行测量，最多可达六个独立层的薄膜厚度即可同时测量得出。
产品应用：
直径最大可达200mm的底层上的透明或半透明薄膜(氧化膜、氮化膜、光阻膜、非铟锡氧化膜)。
相关信息：
UNECS-2000基于光谱式椭偏技术，利用的是高阶减速器。其专为小型体积下的高速测量设计的电机化阶段可测量直径最大达200mm的样本。
上市时间：
现在有售
(翻译：陈琦)
