MacDermid旗下HELIOS镀膜解决方案可使用窄铜网导体替代银浆

  • 2015年03月09日
  • 作者: Mark Osborne

    Mark Osborne

    高级新闻编辑,Solar Media Limited 旗下 PV-Tech

    马克•奥斯本在半导体和光伏制造业拥有近二十年的从业经验。作为业内第一批专业网站的负责人之一,马克专注于相关领域的制造业。此外,自2005年以来,马克以半导体编辑的身份主持PV-Tech博客栏目。在其职业生涯中,马克曾多次主持和出席多个业内技术会议及产业相关活动。目前马克担任PV-Tech网站和Photovoltaics International技术刊物的高级新闻编辑一职,负责撰写全球光伏产业的主要发展动态,并继续以其独特的视角及分析力撰写PV-Tech博客栏目(编辑博客)。

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  • 翻译: 蒋荒野
    蒋荒野

    蒋荒野

    高级编译,Solar Media Limited 旗下 PV-Tech China

    蒋荒野在2010年3月留学英国时,以实习生的身份加入Solar Media Ltd,随后在英国总部担任中文编译一职。直至统计日期,她已在PV-Tech中英文平台上发布了至少50万字的翻译内容。蒋荒野曾就读于大连外国语学院和吉林大学,并获得了英语文学学士学位和经济学学士学位;此后还曾在英国威斯敏斯特大学(University of Westminster )取得外交口笔译专业文学硕士学位。随着PV-Tech在中国区影响力的逐步提升,蒋荒野女士将带领翻译团队全力配合驻中国区记者们将具有中国特色的优秀专题报道传递至PV-Tech的姊妹英文媒体平台中,让越来越多的海外读者加深对中国太阳能光伏市场的了解。

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MacDermid旗下的HELIOS镍铜银湿化学渡浴是集成激光刻蚀、镀膜、热退火等工艺系统中的关键组成部分,可实现30µm的栅线宽度和4N的拉力,从而可将单个电池的成本降低US$0.06。

MacDermid旗下的HELIOS镍铜银湿化学渡浴是集成激光刻蚀、镀膜、热退火等工艺系统中的关键组成部分,可实现30µm的栅线宽度和4N的拉力,从而可将单个电池的成本降低US$0.06。

MacDermid旗下的HELIOS镍铜银湿化学渡浴是集成激光刻蚀、镀膜、热退火等工艺系统中的关键组成部分,可实现30µm的栅线宽度和4N的拉力,从而可将单个电池的成本降低US$0.06。

针对问题

自从2008年以来,随着硅基太阳能电池的生产成本下降了US$3/Wp,光伏市场的需求来那个增加了40%(以年复合增长率计),使得传统丝网印刷工艺中所使用的银浆能否继续满足未来产业的需要受到了较大的质疑。此外,由于物理和热压等原因,使用银浆进行丝网印刷和烧结工艺限制了更薄的硅片和效率更高的电池设计的应用。为解决这些问题,光伏发展路线图增加了对铜网导体的需求。迄今为止,铜导体的使用遇到了粘附损失、ARC镀膜等问题,并需要使用大型昂贵的镀膜设备。

解决方案

窄铜网导体可将光捕捉率提高50%,并通过三步工艺即可完成制作:使用皮秒级UV激光对ARC进行刻蚀,将硅暴露出来;通过内联传送式镀膜工具、使用超速电沉积创新配方,进行1µm镍层、10-15µm铜层和0.2µm银层沉积;迅速对HELIOS金属网格进行退火工艺,从而获得与浆料印刷导体相似的粘附性。镍层可实现与硅材料的全面积基础,铜层可实现浆料所无法达到的导电性。低温操作使得这一工艺可应用于几乎所有高效电池上,特别是PERC、硅基异质结和双面设计等。金属导体成本可立即减少50%,从而将投资回报期缩短至一年。为确保稳定性,HELIOS导体曾在Fraunhofer ISE实验室中按照IEC标准进行过量产组件测试。所生产出的组件通过了湿热测试和热循环压力测试,并在经过了600次热压循环后无一款出现故障。

产品应用

本品可应用于单晶和多晶硅基太阳能电池的导体形成工艺中。

相关信息

公司在德国的合作伙伴可提供专业激光刻蚀服务,设备规模可扩充至50或100MW,并配有内置运输部件。导体通过MacDermid旗下的新型HELIOS化学系统进行镀膜,沉积速度极快、纯度高,且几乎不会产生镀层应力。具有单面化学暴露、独特刷状触点的水平LIP(激光等离子体)镀膜工具(100MW设备约为20米长)的使用能够使大多数电池获益。一些设计则需要垂直连续镀膜工艺已实现快速双面沉积。

上市时间

已上市。

(责任编辑:蒋荒野)

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